Sáng chế đề cập đến quy trình chế tạo màng mỏng oxit kim loại nhạy bức xạ UV sâu trên các đế dẻo có khả năng uốn cong bằng phương pháp quay phủ ở nhiệt độ thấp trong điều kiện khí quyển, qua đó hình thành lớp màng ổn định mà không cần các thiết bị lắng đọng chân không. Quy trình theo sáng chế cho phép tạo màng liên tục, đặc khít và có độ nhẵn cao, đồng thời đạt độ bám dính tốt và độ đồng đều phù hợp triển khai trên nhiều nền linh hoạt. Màng oxit kim loại thu được có đặc tính quang học-điện tử phụ thuộc vào bản chất hạt nano oxit kim loại được lựa chọn, nhờ đó có thể điều chỉnh phố hấp thụ và vùng nhạy quang theo mục tiêu ứng dụng trong khi vẫn duy trì khả năng dẫn điện và vận chuyển điện tích đáp ứng yêu cầu tích hợp linh kiện. Trên cơ sở đó, màng theo sáng chế có thể được ứng dụng như lớp chức năng trong các thiết bị quang-điện, đặc biệt là cảm biến quang đeo được.